X선을 시료표면에 조사하여 방출되는 광전자의 결합에너지와 양을 측정함으로써 시료를 구성하고 있는 성분과 조성을 분석할 수 있음. 또한 원자 주변에 결합하고 있는 원소에 따라 전자의 결합에너지의 변화(shift) 정도를 분석하여 화학결합상태를 알 수 있음. Option인 UV(자외선)을 조사하여 가전자대(valence band)내의 전자분포를 분석할 수 있으며, 또한 일함수(work function) 측정도 가능함. - 결합에너지 측정 - 깊이분석 - UPS (Ultra Photoelectron Spectroscopy) - REELS (Reflection Electron Energy Loss Spectroscopy) - Angle Resolved XPS (AR-XPS) - ISS (Ion Scattering Spectroscopy)

XPS Systems 1) X-ray Source Type - Monochromated, micro-focused, low-power Al K-Alpha X-ray source 2) XPS Energy Resolution : ≤ 0.5 eV FWHM 3) Max. Sample Area : 40mm X 40mm 이상 4) Max. Sample Thickness : 20mm 5) Detecor Channel:128 channel 6) Max, Power: ≥100W Optional Anaylytic Techniques 1) ISS 2) UPS 3) REELS 4) RAMAN Gas Cluster 1) Gas Source - Ar, He (argon only for cluster operation) 2) Beam Enegry - Beam energy in Monatomic mode: 500 eV to 4 keV - Beam energy in Cluster mode: 2 keV to 8 keV 3) Cluster Size - Cluster size range 75 atoms – 2000 atoms 4) Vacuum

surface elements analysis(표면 성분 분석)