- 공동활용(예약가능)장비 - 교내외 공동사용 가능 및 서비스 제공 기관별 사용예약/결제시스템을 이용하는 장비
- 단독활용장비 장비 - 기관 자체적으로 운영하며 사용예약/결제시스템을 이용하지 않는 장비
| 국가연구장비 분류체계 | 장비명 | 예약가능 여부 |
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공동기기원 공동활용 |
Focused Ion Beam system / 집속이온빔장치
[81B104]집속이온빔(FIB) 도입년도 : 2013 모델명 : JIB-4601F 취득금액 : |
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정보통신용신기능... 공동활용 |
ICP Etcher / 유도결합형 플라즈마 식각장비
[81401]나노공정팹 도입년도 : 2002 모델명 : Multiplex ICP 취득금액 : |
예약불가 |
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정보통신용신기능... 공동활용 |
ICP ETCHER / 유도결합형 플라즈마 식각장비
[81401]나노공정팹 도입년도 : 2001 모델명 : ASEHR 취득금액 : |
예약불가 |
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정보통신용신기능... 공동활용 |
Silicon Micro-machinable Etcher / 실리콘 식각장비
[81401]나노공정팹 도입년도 : 2015 모델명 : MUC-21 취득금액 : |
예약불가 |
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성균관대학교산학... 단독활용 |
FIB Ⅱ / 집속이온빔장치Ⅱ
공동기기원호 도입년도 : 2012 모델명 : JIB-4601F 취득금액 : |
예약불가 |
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첨단소재기술연구소 단독활용 |
Plasma Asher Machine / 플라즈마 애셔
83642 도입년도 : 2013 모델명 : 모델명 없음 취득금액 : |
예약불가 |
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성균관대학교 단독활용 |
Spin Wet Etcher / 스핀 습식 식각 장비
81401 도입년도 : 2008 모델명 : ESE Lab Series 취득금액 : |
예약불가 |
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공동기기원 단독활용 |
Oxide ICP Etcher / 산화막 유도결합형 플라즈마 식각장비
나노팹 도입년도 : 2004 모델명 : AOE 취득금액 : |
예약불가 |
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성균나노과학기술원 단독활용 |
Neutral Beam Etching System / 중성빔식각장치
83102 도입년도 : 2010 모델명 : 12웨이퍼 처리용 취득금액 : |
예약불가 |
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공동기기원 단독활용 |
Precision Etching Coating System / (예약불가)고분해능코팅에칭기
[81B107]기기분석실Ⅲ 도입년도 : 2018 모델명 : 685 PECS II. Cool 취득금액 : |
예약불가 |