- 공동활용(예약가능)장비 - 교내외 공동사용 가능 및 서비스 제공 기관별 사용예약/결제시스템을 이용하는 장비
- 단독활용장비 장비 - 기관 자체적으로 운영하며 사용예약/결제시스템을 이용하지 않는 장비
| 국가연구장비 분류체계 | 장비명 | 예약가능 여부 |
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정보통신용신기능... 공동활용 |
7 inch Sputtering System Ⅰ / 7인치 스퍼터링 시스템 Ⅰ
[81401]나노공정팹 도입년도 : 2003 모델명 : 모델명 없음 취득금액 : |
예약불가 |
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양자기술첨단기기... 공동활용 |
Cold-Wall Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) System for Growth of Quantum Semi-Metals / 양자 준금속 합성 기술 개발을 위한 냉벽 유기금속화학기상증착 시스템
N센터 C동 2층 86291호 도입년도 : 2025 모델명 : 수직형 MOCVD 취득금액 : |
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정보통신용신기능... 단독활용 |
Magnetron Sputter / 진공증착기
81401호 도입년도 : 2016 모델명 : SN-05-040 취득금액 : |
예약불가 |
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전자전기공학부 단독활용 |
12inch scale Co-pulsed MOCVD for 2D TMD growth / 2차원 물질 합성을 위한 12인치급 동시 펄스 주입 유기금속화학증착기
81210호 도입년도 : 2026 모델명 : 12 Co-Pulsde MOCVD 취득금액 : |
예약불가 |
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에너지과학과 단독활용 |
EQE/IPCE(IQE) Measurement System for Solar Cell / 실험장치, 광학(양자효율측정시스템)
83149 도입년도 : 2010 모델명 : IQE-200 취득금액 : |
예약불가 |
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에너지학과 단독활용 |
Metal-Organic Chemical Vapor Deposition System for Quantum Heterostructures / 양자이종구조체 유기금속기상화학증착장비
86291호 도입년도 : 2025 모델명 : MOCVD 취득금액 : |
예약불가 |
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전자전기공학부 단독활용 |
CLD (Crystalline Layer Deposition) / 이차원 반도체 결정층 증착 장치
81210호 도입년도 : 2026 모델명 : Aurora-200 취득금액 : |
예약불가 |