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Electron Microscope / 전자 현미경(SEM,TEM)

  • 장비설명

    ◦ 본 장비는 시료 표면을 전자빔으로 주사하여 고해상도 이미지를 획득하는 주사전자현미경(SEM)임 ◦ 3.0 nm(SE 이미지 기준) 해상도가 확보되며 미세 구조 관찰이 가능함 ◦ 전자총은 사전 정렬된 텅스텐 필라멘트(pre-centered tungsten filament)가 장착되어 안정적 빔을 제공함 ◦ 가속 전압은 200 V-30 kV 범위에서 선택 가능하여 저전압 분석부터 고전압 심층 관찰까지 대응함 ◦ 배율 범위는 ×10-×300,000까지 지원되어 저배율 매크로 검사와 나노 스케일 관찰이 모두 수행됨 ◦ ET-형식 이차전자(SE) 검출기가 기본 내장되어 표면 형태 대비가 우수하게 구현됨 ◦ 작동 거리(Working Distance)는 5-60 mm로 다양한 시료 두께에 대응하며 초점 거리를 유연하게 조절할 수 있음 ◦ 최대 시료 크기는 Ø150 mm × 60 mm(H)까지 수용되어 웨이퍼·벌크 시료 분석이 가능함 ◦ 본체 치수는 600 W × 623 D × 1350 H mm, 중량 180 kg으로 연구실 설치가 용이함 ◦ 전원은 단상 100-240 VAC, 50/60 Hz, 소모 전력 1 kVA로 일반 실험실 전원 환경에서 운용됨

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    구성 및 성능

    1) Resolution - 3.0nm (SE Image) 2) Electron Gun - Pre-centered Tungsten Filament 3) Acceleration Voltage - 200V ~ 30kV 4) Magnifications - x10 ~ x300,000 5) Detector - SE Detector (ET-type) 6) Working Distance - 5 ~ 60mm 7) Maximum Sample Size - 150mm(D) X 60mm(H) 8) Dimensions - 600(W) X 623(D) X 1350(H)mm / 180kg 9) Power supply - Single Phase : 100 ~ 240VAC, 50 / 60Hz, 1kVA

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  • 항목명 교내요금 교외요금
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