Light source for thin film surface etch monitoring / 박막표면 에치모니터링 광원
-
- 도입년도
- 2025
-
- 모델명
- Light source for thin film surface etch monitoring
-
- 취득금액
-
- 제조국가 / 제조사
- 일본 / Samco
-
- 수량
- 1
-
- 운영기관
- 양자정보연구지원센터
-
- 설치장소
- 81312호
-
- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-4196 / yonuk@kriss.re.kr
-
장비설명
닫기◯ 양자소자의 식각공정에서 박막 표면의 반사율에 따라 박막의에치 진행을 실시간 모니터하기 위한 광원과 이의 설치 ◯ 박막의 표면 모니터링을 위해 현재 양자팹의 시각장비의 상단에 설치할 수 있는 광원으로 유연한 배치가 가능 ◯ 이종 물질의 박막의 시각진행에 따른 반사율을 상대비교할 수 있도록 광원의 세기 정밀 제어 가능
구성 및 성능
닫기○ The Box of Light Source - Lamp type : Halogen Lamp - Wave length range : 380 ~ 760nm - Lamp power control : Voltage control - Lamp life : 500 hr - Installation and attachment to the current RIE system ○ Embedded Controller - CPU : celeron 1.86 Ghz - HDD : 2 GB - O/S : Win7 embedded(Eng) - Software : compatibility with RIE-400iP ○ System installation and commission - System integration with the current SKKU RIE system - Hardware and Software compatibility required
-
첨부된 파일이 없습니다.
-
항목명 교내요금 교외요금 정보가 없습니다.