Thermal Chemical Vapor Deposition / 열화학기상증착장비
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- 도입년도
- 2025
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- 모델명
- TCVD501M-2HAPC
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 대한민국 / 퍼블
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 이차원양자헤테로구조체연구단
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- 설치장소
- 23403B호
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-4087 / shin0902@skku.edu
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장비설명
닫기본 장비는 주입 원료 열분해를 통한 화학적 반응을 기반으로 기판 표면에서 그래핀 소재를 성장하는 화학기상증착 장비로, 그래핀 등 탄소계 소재 및 MoS2 등 2차원 계열 등 신소재 합성 및 제조 목적으로 사용됨
구성 및 성능
닫기- 그래핀 소재 합성 및 제조를 위해 최대온도 1450도 Furnace를 적용하고, 30분 이내 최대온도 도달이 가능, 반응 후 급랭 처리를 위해 furnace 이동이 가능하도록 제작 - 유기물 및 무기물 등 고체형 원료 열분해를 위한 furnace 소스 공급 장치를 설계하여 제작했고, 1000도 이상 온도에서 고체 원료 열분해가 가능하여 다양한 형태의 원료 사용이 가능 - 정밀한 합성이 가능하도록 자동압력제어장치가 포함되어 있고, 미세 유량 제어를 통한 고품질 그래핀 소재 합성이 가능하도록 제작
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