Low pressure Chemical-Vapor Deposition / 저압 화학기상증착장비
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- 도입년도
- 2024
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- 모델명
- 모델명 없음
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 대한민국 / 아텍시스템
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 3단계산학연협력선도대학육성사업단
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- 설치장소
- 83433호
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 010-4076-1411 / rkd9450@gmail.com
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장비설명
닫기증착하려는 물질의 전구체를 고온 환경에 노출시켜 환원/분해하고 이를 통해 특정 기판에 원하는 물질을 증착하는 장비로, 성장온도 및 기체유량 조절에 따라 다양한 크기와 품질의 2차원 반도체 박막 제작이 가능함.
구성 및 성능
닫기◎ Vacuum Furnace ⊙ Furnace module (2ea) - Furnace(1) Max temp. : 1,000℃ - Furnace(2) Max temp. : 800℃ - Quartz Tube - OD100mmx3TxL1,200mm ◎ Vacuum system - Oil Rotary Pump - 600l/min - Auto pressure control module ◎ Gas supply units - MFC- CH4(1SLM), Ar(1SLM), H2(1SLM), spare 2port - MFC Readout - Touch control - Gas Mixing Tank (4 ports)
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