12 inch Magnetron Sputtering system / 12 인치 마그네트론 스퍼터링 시스템
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- 도입년도
- 2020
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- 모델명
- LEO12-8
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 대한민국 / 엘에이티
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 정보통신용신기능성소재및공정연구센터
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- 설치장소
- [81401]나노공정팹
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-6608 / angolmois@skku.edu
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장비설명
닫기12인치 마그네트론 스퍼터링 시스템은 교내외 공동 활용자의 다양한 박막 증착 수요의 대응과 반도체 공정의 배선공정, RDL 공정 및 MEMS 공정의 기능성 박막 공정, 다층박막 공정 등으로 활용
구성 및 성능
닫기○ Process module - 12inch magnetron sputtering cathode, 4 set - Cryo pump & Dry pump - Ultimate pressure < 1.5E-7 torr (within 12 in after target change) - Target : Ti, Cu, Al - Uniformity : ± 5% - Aspect ratio 10 :1 - DC power 5kW ○ Loadlock Chamber & Transfer Arm - Robot Arm - Turbo pump & Dry pump ○ Cassette Chamber - Cassette, 25ea capacity (4, 6, 8 inch) ○ Full Automatic Control
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항목명 교내요금 교외요금 정보가 없습니다.