8inch Mask Aligner / 8인치 마스크 얼라이너
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- 도입년도
- 2020
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- 모델명
- ma/ba8 GEN4
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 독일 / Suss Microtec
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 정보통신용신기능성소재및공정연구센터
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- 설치장소
- [81401]나노공정팹
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-6606 / hubble74@skku.edu
국가연구시설장비 분류체계
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장비설명
닫기8인치 마스크 얼라이너는 MEMS 센서 공정 기본 교육 및 전문가 양성을 위한 실습 교육 및 교내외 공동 활용자의 다양한 사진 공정에 대한 수요에 대응하고 기존 8 인치 공정 장비와 연계한 장비 활용 등으로 사용
구성 및 성능
닫기○ Semi Auto System - Auto exposure, Leveling and Z axis Stage motion - Manual loading, unloading & Alignment ○ Sample size : 4, 6, 8“ wafer (Circle) ○ Mask size : up to 9“ × 9” ○ Wafer Stage : X, Y, Z, θ 4 Axis motion - X, Y stage Resolution : 0.1 ㎛ - Theta Resolution : 5 x 10-5 degrees - Z Axis : 0.1 ~100 ㎛ ○ Auto leveling of mask and sample ○ 1 kW Mercury short arc lamp - Wavelength : NUV 350nm ~ 450nm - 365nm Max. Intensity : ≤~ 30 mw/㎠ - Beam Uniformity : ≤ ± 3% - Vacuum Contact : 1 ㎛ < Thin PR(Thickness 1 um) ○ Top side Alignment - Manual moving stage - Magnification : 90x ~ 500x ○ Bottom side Alignment - Image Capture Program - Alignment Accuracy : < ± 1.5 ㎛
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