Microwave Plasma Batch Asher / 마이크로웨이브플라즈마식각장비
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- 도입년도
- 2006
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- 모델명
- 300 Semi Auto
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 독일 / Pva Tepla
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 정보통신용신기능성소재및공정연구센터
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- 설치장소
- [81401]나노공정팹
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-6602 / gogo7692@skku.edu
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장비설명
닫기The Plasma-System 300 SEMI AUTO is used mainly in the semiconductor and microelectronics industry for dry removal of organic layers 특징 - Wafer Size : All size up to 200 mm - Throughput : Up to 150 wafers/hour depending on type of process - Batch size : Up to 75 wfaers depending on size - wafer loading : Manual wafer loading outside of plasma chamber - Plasma Generation : Microwave source (2.45 GHz) Maximum power 1000 W - Process Gas : 3 channels (Ar O2 CF4) - Vacuum Gauge : Infrared thermometer - End Point detector : Optical EPD - Particle Count : < 50 adders
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