Mask Aligner / 노광기
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- 도입년도
- 2003
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- 모델명
- MA6
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 독일 / Suss Microtec
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 정보통신용신기능성소재및공정연구센터
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- 설치장소
- [81401]나노공정팹
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 031-299-6610 / asduin@skku.edu
국가연구시설장비 분류체계
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장비설명
닫기Mask aligner에는 여러종류의 광학계가 사용됩니다. 그 중에서 Collimator lens는 평행광원을 만드는 lens입니다. 노광했을때 해상력을 높이고 프로파일을 수직으로하기위해서 사용됩니다. 그리고 Integrator 는 광원의 균일도를 높이기위해 랜즈셀을 여러개 붙여서 광원을 분산시킨 후 적분을 통해 균일한 광원을 얻기위한 lens입니다.
구성 및 성능
닫기•substrate size : piece, 4, 6 inch •Mask size : 5, 7 inch •Top/Bottom side alignment •λ: 350/405 nm •chuck size and types, mask size 대개 실험실 용으로는 Karl Suss 사용
사용/활용예
닫기노광시 mask와 wafer의 간격을 말하는 것으로 contact에는 vacuum contact, hard contact, soft contact이 있고 Non-Contact 은 mask와 wafer의 간격을 일정 간격으로 띄운 상태로 노광
용도
닫기반도체는 기판이라는 크리스탈 위에 다른 물질을 스핀코팅해서 박막(아주 얇은 막을 만들어서 소자를 만들죠 많은 반도체 업계에서 사용, 물체를 회전 시켜서 물체 위에 올려진 액체를 원심력 때문에 밖으로 밀려나게 하는 방법으로 물체에 임의의 액체를 코팅하는데 사용한다.
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