7 inch Sputtering System Ⅰ / 7인치 스퍼터링 시스템 Ⅰ
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- 도입년도
- 2003
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- 모델명
- 모델명 없음
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 대한민국 / 에이텍
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 정보통신용신기능성소재및공정연구센터
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- 설치장소
- [81401]나노공정팹
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 000-000-0000 / asduin@skku.edu
국가연구시설장비 분류체계
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장비설명
닫기스퍼터 장비는 진공챔버, 파워서플라이, 펌프,가스제어부 등으로 구성되어 있으며,진공장치 제어해서 진공을 뽑고, 가스 주입하고 플라즈마 생성시켜서 증착시간을 조절해서 배출하는 기능을 한다.
구성 및 성능
닫기1)Power Supply(1KW) : 1set 2)Rotary Pump(600L) : 2set 3)Turbo Pump (400L) : 1set 4)Vacuum Chamber : 1set
사용/활용예
닫기최적화된 Sputtering Cathode 설계로 인한 Co-Sputtering Process 가능 Cathode 시뮬레이션을 통한 높은 Target 사용효율 확보 시뮬레이션에 기반을 둔 장비 설계로 적합한 Components 구성 대면적 Substrate 에 뛰어난 막 균일도 형성
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