Mask Aligner / 마스크 얼라이너
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- 도입년도
- 2015
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- 모델명
- MA6
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- 취득금액
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- 제조국가 / 제조사
- 독일 / Karl Suss
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- 수량
- 1
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- 운영기관
- 이차원양자헤테로구조체연구단
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- 설치장소
- [86698]클린룸
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- 담당자 연락처 / e-mail
- 010-3639-4408 / kwonwool@g.skku.edu
국가연구시설장비 분류체계
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장비설명
닫기반도체 제조 공정에서 포토레지스트를 이용한 포토리소그래피(사진) 공정을 수행하는 시스템으로서 회로 패턴을 그린 포토마스크를 실리콘 웨이퍼 및 기타 기판 위에 정확하게 위치 맞춤, 노광하여 원하는 미세 패턴을 형성한다.
구성 및 성능
닫기1. Optic parts(Condenser lens, lens plate(1,2), Cold Light Mirror, Turning Mirror, Front Lens, Lamp, TSA Microscope, CCD Camera, eyepiece, objective) 2. Mask aligner machine, Optic table, Mask holder, Monitor 다양한 공정에 응용 가능한 범용 Mask aligner - Modular 디자인 - 정밀한 포커싱을 위한 넓은 초점 조정 범위 - Top side Alignment 및 Bottom side Alignment - IR alignment - Bond Aligner 로 사용이 가능함 - 최대 substrate 크기: 6“x6“ - UV 400, UV300, UV 250, UV 200(Excimer laser) - Substrate 수평 최적화 시스템 - 높은 공정 수율과 마스크 보호를 위한 정확하고 정밀한 gap setting - 셋업 시간을 줄이고 공정의 재연성을 향상시키기 위한 파라미터 및 프로그램 저장 가능
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